Metodo di produzione estensione film

Molecular beam epitaxy. Molecular beam epitaxy is a method by which stretch film manufacturers use molecular beams to grow in ultrafiltration units. Molecular beam epitaxy (MBE) is carried out under a vacuum pump (UHV), which ensures that molecular beam epitaxy has a large mean free path and can be projected onto the substrate surface according to the design scheme.
It is a feature of MBE that unlike other stretched film growth methods, this method has many advantage: It can integrate detectors that require a high vacuum pump standard into the epitaxy growth system software. Scientific studies of the principles of epitaxial growth have shown the standard. The thickness of the epitaxial layer can be precisely controlled, and the growth surface or page can achieve a molecular gloss, allowing the produzione di stirato pellicole. 2. Laser singolo impulso sovrapposizione metodo. Il laser singolo-impulso deposizione metodo è diverso da il tradizionale vuoto evaporazione forgiatura sottile film. Il laser può alzare il temperatura di il irradiato area a a velocità quello può poi calore il irradiato area da semplice riscaldamento a candela combustione con plasma tecnologia. Il lume di candela è espulso lungo il normale direzione di la superficie, e produce duttile o riflettente collisioni con molecole o molecole in il aria in il riflettente camera.